专利发明人 王东军等

“形状记忆高分子及其相关材料的制备”是我校主持完成的科研成果，该科研成果达国际先进水平，2014年获得国家发明专利（专利号：ZL201110063951.X)。该项成果的主要内容：

1．热致型形状记忆高分子材料：本成果解决现有制备技术缺陷，提供一种静态聚合法制备形状记忆材料。该方法工艺简单，制备出的形状记忆材料性能良好，是一种经济、高效的制备形状记忆材料的方法。此材料能广泛使用于电线电缆、化工管道的连接与保护，同时在仪表保护、家用电器、汽车、包装、玩具、日用品、形状记忆防伪标识和医用材料等领域都具有广泛的应用前景。

2．智能补漏材料：提出制备一种具有高渗透性和膨胀性的高分子复合材料的新方法，该材料由双组分高分子单体、渗透辅助剂和无机纳米颗粒复合而成。此智能补漏材料可同时解决建筑的大缝隙和微小缝隙的渗漏问题，为国内首创，其主要特性为：能够快速渗入建筑材料的微小缝隙或微孔,同时能在大缝隙裂缝处自发膨胀。

3．混凝土和石膏等高分子增强材料：该材料对于无机材料具有高渗透性，与无机材料结合后能够显著提高材料的强度、硬度、表面亲油性和耐候性，国内尚无此类产品的生产和研究报道。可应用领域：（1）可提高石膏材料的表面硬度和冲击强度，对石膏产品有质的提升，可广泛用于工业设计、工艺品制作和新型材料等领域;(2)提高混凝土和砖等建筑材料的耐候性和强度,同时改善其表面性质,使油基涂料不易剥离；（3）对已经风化严重的古建筑和壁画等有良好的修复能力，在不破坏原貌的基础上，具有粘接风化颗粒和深入保护的双重作用。